高温工业烤箱价格

真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高） 工业烤箱哪个性价比高？合肥真萍科技告诉您。高温工业烤箱价格

锂电池真空干燥箱产品描述：真空干燥箱，是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。

特点：

1、长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。

2、双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。

3、箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。

5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。

真空程序分段控制

该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。

操作步骤

1，接通电源

2，产品送入腔体，关门

3，打开电源

4，工作温度设定好，启动加热，设备进入自动恒温状态

5，真空值和时间设定好后，启动真空泵，开始进入自动抽真空阶段

6，到达时间值后，真空泵自动关闭 淮安工业烤箱电烘箱接线.合肥真萍科技工业烤箱专业值得信赖。

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。

真萍科技电脑式洁净节能氮气柜主要应用于解决晶圆片的潮湿、氧化及被其它气体(ex阿摩利亚气体)破坏，解决探针卡潮湿及氧化问题解决光罩的受潮问题---黄光部封装的金线，解决液晶的受潮问题，解决线路板受潮问题。下面为大家简单介绍一下真萍科技电脑式洁净节能氮气柜。柜体规格、配备：1.左右双开门，3mm钢化玻璃，1mm厚不锈钢板，气密式隐藏锁把手。2.柜体密封高吸附力磁性胶条与柜体密闭，脚垫采高承载车轮及调整高低脚垫。3.附高载重不锈钢隔板，柜体加装高载重煞车轮。4.上掀式气密盖，方便FFU保养及维修。5.回风循环设计，单向氮气循环不产生紊流。6.背面气密开门式设计，方便洁净清理与保养。工业烤箱的定制价格。

产品描述：真空干燥箱，是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿，使工作室内形成真空状态，降低水的沸点，加快干燥的速度。特点：1、长方体工作室，增加有效容积，微电脑温度控制器，精确控温。2、双层玻璃视窗观察工作室内物体，一目了然。3、箱体闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。4、工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成，确保产品经久耐用。5、储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行，所以不会氧化。真空程序分段控制该型号机型，抽真空过程可提供程序化编程，根据客户要求编辑设定真空值，保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。工业烤箱的运作原理是什么？无锡工业烤箱价格

采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。高温工业烤箱价格

下面为大家介绍一下石墨盘烤盘炉一.产品介绍真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。二、设计特点1、后门设计热风电机2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的三、技术指标1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；4、加热元件：石墨加热棒；5、冷却方式：气冷+循环风冷降温；6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；8、气氛:可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；9、极限真空:10-3torr级；10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr11、升温功率：170kW；12、升温速率：15℃/min（空载）；13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）高温工业烤箱价格