不锈钢工业烤箱温度不均匀

HMDS真空烤箱主要技术指标：

1. 机外壳采用冷扎钢板喷塑处理，内胆为不锈钢316L材料制成；加热器均匀分布在内胆外壁四周，内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

2. 箱门闭合松紧能调节，整体成型的硅橡胶门封圈，确保箱内高真空度。

3. 微电脑智能控温仪，具有设定，测定温度双数字显示和PID自整定功能，控温精确，可靠。

4. 智能化触摸屏控制系统配套日本三菱PLC模块可供用户根据不同制程条件改变程序，温度，真空度及每一程序时间。

5.HMDS气体密闭式自动吸取添加设计，真空箱密封性能佳，确保HMDS气体无外漏顾虑。整个系统采用质量材料制造，无发尘材料，适用100级光刻间净化环境。

6 HMDS管路加热功能，使HMDS液体进入箱体的前端管路加热，使转为HMDS气态时更易。

7. 低液报警装置，采用红外液体感测器，能及时灵敏给出指令（当HMDS液过低时发出报警及及时切断工作起动功能）

8. 温度与PLC联动保护功能（当PLC没有启动程序时，加温功能启动不了，相反加温功能启动时，PLC程序不按正常走时也及时切断工作功能，发出警报）

9.整个箱体及HMDS气体管路采用SUS316不锈钢材料，整体使用无缝焊接（避免拼接导致HMDS液体腐蚀外泄对人体的伤害）

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冷热冲击试验箱具有模拟大气环境中温度变化规律。主要针对于电工，电子产品，以及其元器件及其它材料在高温，低温综合环境下运输，使用时的适应性试验。用于产品设计，改进，鉴定及检验等环节。

真萍科技作为冷热冲击试验箱设备制造厂商，在冷热冲击试验箱设备制造领域的专业性是不用多说的。下面让真萍科技从温度方面，带您了解冷热冲击试验箱。一、温度波动度

    这个指标也有叫温度稳定度，控制温度稳定后，在给定任意时间间隔内，工作空间内任一点的较高和较低温度之差。这里有个小小的区别“工作空间”并不是“工作室”，是大约工作室去掉离箱壁各自边长的1/10的一个空间。这个指标考核产品的控制技术。

二、温度范围

     指产品工作室能耐受和(或)能达到的极限温度。通常含有能控制恒定的概念，应该是可以相对长时间稳定运行的极值。一般温度范围包括极限高温和极限低温。一般标准要求指标为≤1℃或±0.5℃。

三、温度均匀度

     旧标准称均匀度，新标准称梯度。温度稳定后，在任意时间间隔内，工作空间内任意两点的温度平均值之差的较大值。这个指标比下面的温度偏差指标更可以考核产品的**技术，因此好多公司的样本及方案刻意隐藏此项。一般标准要求指标为≤2℃。

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真空烤盘炉是与MOCVD设备配套使用的炉体，炉内抽真空，被处理工件放置在炉膛内，采用清洗气体加热反应方式进行干式清洗（清洗气体：N2，H2）。主要用于有效清洗除MOCVD承受器（SiC涂层石墨盘或石英盘）上的氮化镓和氮化铝等，可达到有效清洁处理，提高制品质量的目的。

二、设计特点

1、后门设计热风电机

2、降温时风机开启，同时两端降温封头开启，炉膛内产生如图所示的气体流向

3、通过气体介质将隔热层内与水冷壁之间进行热交换，达到快速降温的目的

三、技术指标

1、使用温度：1450℃；比较高温度：1500℃；

2、绝热材料：石墨纤维毯、石墨纸；

4、加热元件：石墨加热棒；

5、冷却方式：气冷 + 循环风冷降温；

6、控温稳定度：±2℃，具有PID参数自整定功能；

7、炉膛温度均匀度：±5℃（恒温1500℃）；

8、气氛: 可向炉膛内通入干燥、洁净、无油的高纯度氮气,纯度≥99.999%；

9、极限真空: 10-3torr级；

10、抽气速率：空载下，30min达到10-2torr

11、升温功率：170kW；

12、升温速率：15℃/min（空载）；

13、降温速率：1450℃至80℃,240分钟

14、腔体尺寸：1000*1000*1000mm（宽*深*高）

下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。

本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

箱体结构：

1烘箱总体由箱体部分，电气控制柜部分，电加热部分，风道部分，尘埃物过滤部分，

N2 进气排气及风冷部分等组装而成，结构合理，功能实用。

2外箱材料:外箱采用SS41#中碳钢板经磷酸皮膜盐处理后两层防光面涂装烤漆可防止微尘，内胆材料：采进口SUS304#2mm不锈钢板全周氩焊,并经碱性苏打水清洁有效的防止了机台本身灰尘的产生。

3保温材料：采用正厂**玻璃纤维公司出品的100K级高密度保温板填充，有效的防止了热能浪费。

4电热部分：采用进口覆套式电热器（SHEATHED HEATER）无尘无氧化电热发生器

5风道部分：整体结构采用了水平送风的方式由左向右送风后经美国进口H.E.P.A，(特殊风道设计)过滤效果可达99.99%,Class100；

完善的控制系统，及安全防护措施

1操作控制系统，采用精密电子仪器仪表结合电力拖动系统控制，更快速，更稳定。

2防护措施：紧急停止，超温保护,断线报警，相序保护，过载保护，短路保护，漏电保护，及电磁门禁保护等 如有需要工业烤箱，欢迎致电合肥真萍咨询！

下面为大家简单介绍一下六腔体无尘烤箱。

本产品是参照GB/T11158-1989，GB2423，2-1989干燥箱技术条件及中国相关标准研究制造，广泛应用于电子液晶显示，LCD,CMOS,IC，医药实验室等生产及科研部门。

技术指标：

1 无尘等级：Class100：（符合FED-STD 209E标准：0.3um≤300个0.5≤100个）

2温度范围：+60℃~ +250℃（极限温度350℃）

3温度均匀性：±2℃（空箱测试）

4温度精确度：±1℃（空箱测试）

5设备型号规格:450*450*450；450*600*450；600*800*600；600*700*600;700*900*700;

700*1000*700;800*1000*800;800*1200*800;1000*1200*1000;

1000*1300*1000;1000*1400*1000; 工业烤箱生产厂家哪家好？合肥真萍科技告诉您。不锈钢工业烤箱温度不均匀

真萍科技是从事热处理设备、烘烤制程设备、环境与可靠性试验设备、半导体黄光区**设备等产品专业供应商。不锈钢工业烤箱温度不均匀

HMDS 预处理系统的必要性：在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲 水的，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。

  增黏剂HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后，经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水，其疏水基可很好地与光刻胶结合，起着偶联剂的作用。 不锈钢工业烤箱温度不均匀

合肥真萍电子科技有限公司是一家电子产品，电子设备及配件，半导体设备及配件，半导体耗材，办公设备研发及销售。真萍科技(真萍微电子装备)是专业从事烘烤制程设备，半导体黄光区**设备，环境与可靠性试验设备,电镀清洗设备，防潮防氧化专业设备等产品的生产和销售供应厂商，是以一批多年从事环境试验设备、防潮防氧化设备,半导体黄光区**设备，电镀清洗设备等行业的专业工程技术人员，具有设计、制造、销售及售后服务能力的综合性企业。的公司，是一家集研发、设计、生产和销售为一体的专业化公司。真萍电子深耕行业多年，始终以客户的需求为向导，为客户提供***的洁净箱，干燥箱，高温无氧烤箱，隧道炉。真萍电子始终以本分踏实的精神和必胜的信念，影响并带动团队取得成功。真萍电子创始人安小敏，始终关注客户，创新科技，竭诚为客户提供良好的服务。